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J-GLOBAL ID：201902017039974036   整理番号：19S2743331

Excimer laser enhanced nitridation of silicon substrates

著者 (3件)： Sugii, Toshihiro (Fujitsu Laboratories, Ltd.) ,  Ito, Takashi (Fujitsu Laboratories, Ltd.) ,  Ishikawa, Hajime (Fujitsu Laboratories, Ltd.)
資料名： Applied Physics Letters
巻： 45  号： 9  ページ： 966-968  発行年： 1984年 
JST資料番号： SCOPUS  ISSN： 0003-6951 
言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (1件)： LASER