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J-GLOBAL ID：201902018187750305   整理番号：19S2579844

On the important effect of water vapor in the atmosphere on void formation in quenched pure aluminum

著者 (3件)： Shimomura, Yoshiharu (Applied Physics and Chemistry, Hiroshima University) ,  Kitagawa, Kunihiko (Applied Physics and Chemistry, Hiroshima University) ,  Moritaki, Yoshiziro (Hiroshima Institute of Technology)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics
巻： 20  号： 12  ページ： 2287-2293  発行年： 1981年 
JST資料番号： SCOPUS  ISSN： 0021-4922 
言語： 英語 (EN)