文献

J-GLOBAL ID：201902018516266797   整理番号：19S3016877

Deposition of high-quality a-Si:H by direct photodecomposition of Si 2H6 using vacuum ultraviolet light

著者 (7件)： Fuyuki, Takashi (Department of Electrical Engineering, Kyoto University) ,  Du, Kai-Ying (Department of Electrical Engineering, Kyoto University) ,  Okamoto, Shingo (Department of Electrical Engineering, Kyoto University) ,  Yasuda, Sadayuki (Department of Electrical Engineering, Kyoto University) ,  Kimoto, Tsunenobu (Department of Electrical Engineering, Kyoto University) ,  Yoshimoto, Masahiro (Department of Electrical Engineering, Kyoto University) ,  Matsunami, Hiroyuki (Department of Electrical Engineering, Kyoto University)
資料名： Journal of Applied Physics
巻： 64  号： 5  ページ： 2380-2383  発行年： 1988年 
JST資料番号： SCOPUS  ISSN： 0021-8979 
言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (2件)： Si ,  LIGHT