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J-GLOBAL ID：201902020965680527   整理番号：19S2954486

TEM and SXES study of Ni-silicide/Si interface: crystallographic relationship with the Si substrates

著者 (8件)： Yamauchi, S. (Research Laboratory for Surface Science, Faculty of Science, Okayama University) ,  Hirai, M. (Research Laboratory for Surface Science, Faculty of Science, Okayama University) ,  Kusaka, M. (Research Laboratory for Surface Science, Faculty of Science, Okayama University) ,  Iwami, M. (Research Laboratory for Surface Science, Faculty of Science, Okayama University) ,  Nakamura, H. (Osaka Electro-Communication University, Hatsu, Neyagawa, Osaka 572, Japan) ,  Yokota, Y. (The Research Center for Microanalysis, Okayama University of Science) ,  Akiyama, A. (Central Research Laboratories, Kuraray Co., Ltd.) ,  Watabe, H.
資料名： Applied Surface Science
巻： 60-61  号： C  ページ： 372-379  発行年： 1992年 
JST資料番号： SCOPUS  ISSN： 0169-4332  CODEN： ASUSE 
言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (3件)： TEM ,  SXES ,  Si