文献

J-GLOBAL ID：201902021149296537   整理番号：19S2946792

Thermal annealing effects on P-type Mg-doped GaN films

著者 (4件)： Nakamura, Shuji (Nichia Chemical Industries, Ltd.) ,  Mukai, Takashi (Nichia Chemical Industries, Ltd.) ,  Senoh, Masayuki (Nichia Chemical Industries, Ltd.) ,  Iwasa, Naruhito (Nichia Chemical Industries, Ltd.)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics
巻： 31  号： 2  ページ： 139-142  発行年： 1992年 
JST資料番号： SCOPUS  ISSN： 0021-4922 
言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (1件)： GaN