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J-GLOBAL ID：201902102362756665   整理番号：19S2372220

High-accuracy x-ray reflectivity study of native oxide formed in chemical treatment

著者 (6件)： Awaji, Naoki (Fujitsu Laboratories Ltd.) ,  Sugita, Yoshihiro (Fujitsu Laboratories Ltd.) ,  Ohkubo, Satosi (Fujitsu Laboratories Ltd.) ,  Nakanishi, Toshiro (Fujitsu Laboratories Ltd.) ,  Takasaki, Kanetake (Fujitsu Laboratories Ltd.) ,  Komiya, Satoshi (Fujitsu Laboratories Ltd.)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics
巻： 34  号： 8  ページ： L1013-L1016  発行年： 1995年 
JST資料番号： SCOPUS  ISSN： 0021-4922 
言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (1件)： NATIVE