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J-GLOBAL ID：201902108634917793   整理番号：19S2378235

High aspect ratio micromachining Teflon by direct exposure to synchrotron radiation

著者 (8件)： Zhang, Y. (Sumitomo Heavy Industries, Ltd.) ,  Katoh, T. (Sumitomo Heavy Industries, Ltd.) ,  Washio, M. (Sumitomo Heavy Industries, Ltd.) ,  Washio, M. (Sumitomo Heavy Industries, Ltd.) ,  Yamada, H. (Sumitomo Heavy Industries, Ltd.) ,  Yamada, H. (Ritsumeikan University) ,  Hamada, S. (Sumitomo Heavy Industries, Ltd.) ,  Hamada, S. (Sumitomo Heavy Industries, Ltd.)
資料名： Applied Physics Letters
巻： 67  ページ： 872-  発行年： 1995年 
JST資料番号： SCOPUS  ISSN： 0003-6951 
言語： 英語 (EN)