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J-GLOBAL ID：201902108960347620   整理番号：19S1568812

Plasma cleaning of Si surfaces for TiO2 film deposition

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著者 (3件)：
Shibata, Akira

Shibata, Akira について

(Department of Electrical Engineering, Fukui National College of Technology)

Department of Electrical Engineering, Fukui National College of Technology について

, 
Kita, Kazumaro

Kita, Kazumaro について

(Department of Electrical Engineering, Fukui National College of Technology)

Department of Electrical Engineering, Fukui National College of Technology について

, 
Okimura, Kunio

Okimura, Kunio について

(Faculty of Engineering, Tokai University)

Faculty of Engineering, Tokai University について


資料名：
Electronics and Communications in Japan, Part II: Electronics (English translation of Denshi Tsushin Gakkai Ronbunshi)

Electronics and Communications in Japan, Part II: Electronics (English translation of Denshi Tsushin Gakkai Ronbunshi) について


巻： 83  号： 7  ページ： 9-13  発行年： 2000年 
JST資料番号： SCOPUS  ISSN： 8756-663X  CODEN： ECJEE 
タイトルに関連する用語 (2件)：
タイトルに関連する用語
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Si

Si について

, 
TiO2

TiO2 について


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