文献
J-GLOBAL ID：201902110903599870   整理番号：19S2859437

Carrier-gas effects on characteristics of copper chemical vapor deposition using hexafluoro-acetylacetonate-copper (1) trimethylvinylsilane

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著者 (2件)：
Awaya, Nobuyoshi

Awaya, Nobuyoshi について

(NTT LSI Laboratories)

NTT LSI Laboratories について

, 
Arita, Yoshinobu

Arita, Yoshinobu について

(NTT LSI Laboratories)

NTT LSI Laboratories について


資料名：
Thin Solid Films

Thin Solid Films について


巻： 262  号： 1-2  ページ： 12-19  発行年： 1995年 
JST資料番号： SCOPUS  ISSN： 0040-6090  CODEN： THSFA 
言語： 英語 (EN)

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