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J-GLOBAL ID：201902111698008089   整理番号：19S2371521

New ultra-high-frequency plasma source for large-scale etching processes

著者 (5件)： Samukawa, Seiji (LSI Basic Research Laboratory., Microelectronics Research Laboratories, NEC Corporation) ,  Nakagawa, Yukito (Anelva Corporation) ,  Tsukada, Tsutomu (Anelva Corporation) ,  Ueyama, Hiroyuki (Nihon Koshuha Co. Ltd.) ,  Shinohara, Kibatsu (Nihon Koshuha Co. Ltd.)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics
巻： 34  号： 12  ページ： 6805-6808  発行年： 1995年 
JST資料番号： SCOPUS  ISSN： 0021-4922 
言語： 英語 (EN)