文献

J-GLOBAL ID：201902112791060895   整理番号：19S2868101

Gaas radiation damage induced by electron cyclotron resonance plasma etching with sf6/chf3

著者 (8件)： Mitani, Katsuhiko (Fiberoptics Division, Hitachi, Limited) ,  Mitani, Katsuhiko (Kasado Works, Hitachi, Limited) ,  Oda, Hiroto (Fiberoptics Division, Hitachi, Limited) ,  Oda, Hiroto (Hitachi ULSIEngineering Corporation) ,  Kasai, Junichi (Fiberoptics Division, Hitachi, Limited) ,  Kasai, Junichi (Central Research Laboratory, Hitachi Limited) ,  Imamura, Yoshinori (Fiberoptics Division, Hitachi, Limited) ,  Imamura, Yoshinori (Central Research Laboratory, Hitachi Limited)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics
巻： 34  号： 8 R  ページ： 3970-3975  発行年： 1995年 
JST資料番号： SCOPUS  ISSN： 0021-4922 
言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (2件)： GaAs ,  SF6