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J-GLOBAL ID：201902114528185775   整理番号：19S2868811

Studies on reaction processes of hydrogen and oxygen atoms with h20-adsorbed si(100) surfaces by high-resolution electron energy loss spectroscopy

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著者 (5件)：
Ikeda, Hiroya

Ikeda, Hiroya について

(Department of Crystalline Materials Science, School of Engineering, Nagoya University)

Department of Crystalline Materials Science, School of Engineering, Nagoya University について

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Hotta, Koji

Hotta, Koji について

(Department of Crystalline Materials Science, School of Engineering, Nagoya University)

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Yamada, Tohru

Yamada, Tohru について

(Department of Crystalline Materials Science, School of Engineering, Nagoya University)

Department of Crystalline Materials Science, School of Engineering, Nagoya University について

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Zaima, Shigeaki

Zaima, Shigeaki について

(Department of Crystalline Materials Science, School of Engineering, Nagoya University)

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Yasuda, Yukio

Yasuda, Yukio について

(Department of Crystalline Materials Science, School of Engineering, Nagoya University)

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資料名：
Japanese Journal of Applied Physics

Japanese Journal of Applied Physics について


巻： 34  号： 4  ページ： 2191-2196  発行年： 1995年 
JST資料番号： SCOPUS  ISSN： 0021-4922 
言語： 英語 (EN)
タイトルに関連する用語 (1件)：
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Si

Si について


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