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J-GLOBAL ID：201902115908631081   整理番号：19S2617721

Preferential local dissolution of indented silicon {111} surface by aqueous solutions of HF with varying pH

著者 (2件)： Katayama, Kazutoshi (Faculty of Science and Technology, Keio University) ,  Senna, Mamoru (Faculty of Science and Technology, Keio University)
資料名： Solid State Ionics
巻： 73  号： 1-2  ページ： 127-137  発行年： 1994年 
JST資料番号： SCOPUS  ISSN： 0167-2738  CODEN： SSIOD 
言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (2件)： HF ,  pH