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J-GLOBAL ID：201902117479148450   整理番号：19S2595386

The future of thermal plasma processing for coating

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著者 (1件)：
Yoshida, Toyonobu

Yoshida, Toyonobu について

(Department of Metallurgy and Materials Science, Faculty of Engineering, University of Tokyo)

Department of Metallurgy and Materials Science, Faculty of Engineering, University of Tokyo について


資料名：
Pure and Applied Chemistry

Pure and Applied Chemistry について


巻： 66  号： 6  ページ： 1223-1230  発行年： 1994年 
JST資料番号： SCOPUS  ISSN： 0033-4545 
言語： 英語 (EN)

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