文献

J-GLOBAL ID：201902120254123387   整理番号：19S2523463

Effects of external stresses on the low temperature thermal oxidation of silicon

著者 (5件)： Tamura, Takao (Department of Precision Engineering, Osaka University) ,  Tanaka, Naoya (Department of Precision Engineering, Osaka University) ,  Tagawa, Masahito (Department of Precision Engineering, Osaka University) ,  Ohmae, Nobuo (Department of Precision Engineering, Osaka University) ,  Umeno, Masataka (Department of Precision Engineering, Osaka University)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics
巻： 32  号： 1 R  ページ： 12-16  発行年： 1993年 
JST資料番号： SCOPUS  ISSN： 0021-4922 
言語： 英語 (EN)