文献
J-GLOBAL ID：201902202834507561   整理番号：19S0364021

Determination of phonon decay rate in p-type silicon under Fano resonance by measurement of coherent phonons

  • 出版者サイト 複写サービスで全文入手
  • 高度な検索・分析はJDreamⅢで
著者 (6件)：
Kato, Keiko

Kato, Keiko について

(NTT Basic Research Laboratories, Nippon Telegraph and Telephone Corporation)

NTT Basic Research Laboratories, Nippon Telegraph and Telephone Corporation について

, 
Oguri, Katsuya

Oguri, Katsuya について

(NTT Basic Research Laboratories, Nippon Telegraph and Telephone Corporation)

NTT Basic Research Laboratories, Nippon Telegraph and Telephone Corporation について

, 
Sanada, Haruki

Sanada, Haruki について

(NTT Basic Research Laboratories, Nippon Telegraph and Telephone Corporation)

NTT Basic Research Laboratories, Nippon Telegraph and Telephone Corporation について

, 
Tawara, Takehiko

Tawara, Takehiko について

(NTT Basic Research Laboratories, Nippon Telegraph and Telephone Corporation)

NTT Basic Research Laboratories, Nippon Telegraph and Telephone Corporation について

, 
Sogawa, Tetsuomi

Sogawa, Tetsuomi について

(NTT Basic Research Laboratories, Nippon Telegraph and Telephone Corporation)

NTT Basic Research Laboratories, Nippon Telegraph and Telephone Corporation について

, 
Gotoh, Hideki

Gotoh, Hideki について

(NTT Basic Research Laboratories, Nippon Telegraph and Telephone Corporation)

NTT Basic Research Laboratories, Nippon Telegraph and Telephone Corporation について


資料名：
AIP Advances

AIP Advances について


巻： 5  号： 9  発行年： 2015年 
JST資料番号： SCOPUS  ISSN： 2158-3226 
発行国： アメリカ (USA)  言語： 英語 (EN)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM