文献
J-GLOBAL ID：201902205064450050   整理番号：19S1341781

Relationship between Surface Cracks and Distribution of Crystalline Silicon Grains in RF-Sputtered β-FeSi2 Films

  • 出版者サイト 複写サービスで全文入手
  • 高度な検索・分析はJDreamⅢで
著者 (2件)：
Uematsu, T.

Uematsu, T. について

(Department of Electrical and Electronic Engineering, Graduate School of Science and Engineering)

Department of Electrical and Electronic Engineering, Graduate School of Science and Engineering について

, 
Nakamura, K.

Nakamura, K. について

(Department of Electrical and Electronic Engineering, Faculty of Engineering Science, Kansai University)

Department of Electrical and Electronic Engineering, Faculty of Engineering Science, Kansai University について


資料名：
Procedia Engineering

Procedia Engineering について


巻： 139  ページ： 112-116  発行年： 2016年 
JST資料番号： SCOPUS  ISSN： 1877-7058 
発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM