文献

J-GLOBAL ID：201902205517892130   整理番号：19S0089995

Removal of post-dry etch residue using ultra low environmental load technique

著者 (5件)： Hayashida, A. (Aqua Science Corporation) ,  Seki, A. (Aqua Science Corporation) ,  Mashiko, T. (Department of Mechanical Engineering, Shizuoka University) ,  Sanada, T. (Department of Mechanical Engineering, Shizuoka University) ,  Watanabe, M. (Division of Mechanical and Space Engineering, Hokkaido University)
資料名： ECS Transactions
巻： 25  号： 5  ページ： 249-256  発行年： 2009年 
JST資料番号： SCOPUS  ISSN： 1938-5862  ISBN： 9781566777421 
発行国： アメリカ (USA)  言語： 英語 (EN)