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J-GLOBAL ID：201902206166719220   整理番号：19S1337496

High aspect silicon structures using metal assisted chemical etching

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著者 (3件)：
Toan, N. V.

Toan, N. V. について

(Microsystem Integration Center (SIC), Tohoku University)

Microsystem Integration Center (SIC), Tohoku University について

, 
Toda, M.

Toda, M. について

(Graduate School of Engineering, Tohoku University)

Graduate School of Engineering, Tohoku University について

, 
Ono, T.

Ono, T. について

(Graduate School of Engineering, Tohoku University)

Graduate School of Engineering, Tohoku University について


資料名：
16th International Conference on Nanotechnology - IEEE NANO 2016

16th International Conference on Nanotechnology - IEEE NANO 2016 について


ページ： 720-723  発行年： 2016年 
JST資料番号： SCOPUS  ISBN： 9781509039142 
発行国： アメリカ (USA)  言語： 英語 (EN)

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