文献
J-GLOBAL ID：201902209082541875   整理番号：19S1302909

Internal repair for plasma damaged low-k films by methylating chemical vapor

  • 出版者サイト 複写サービスで全文入手
  • 高度な検索・分析はJDreamⅢで
著者 (4件)：
Nagano, Shuji

Nagano, Shuji について

(Taiyo-Nippon Sanso Corporation)

Taiyo-Nippon Sanso Corporation について

, 
Sakoda, Kaoru

Sakoda, Kaoru について

(Taiyo-Nippon Sanso Corporation)

Taiyo-Nippon Sanso Corporation について

, 
Hasaka, Satoshi

Hasaka, Satoshi について

(Taiyo-Nippon Sanso Corporation)

Taiyo-Nippon Sanso Corporation について

, 
Kobayashi, Kiyoteru

Kobayashi, Kiyoteru について

(Tokai University)

Tokai University について


資料名：
Advanced Metallization Conference (AMC)

Advanced Metallization Conference (AMC) について


ページ： 33-34  発行年： 2010年 
JST資料番号： SCOPUS  ISSN： 1540-1766  ISBN： 9781617822810  CODEN： MRSPD 
発行国： アメリカ (USA)  言語： 英語 (EN)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM