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J-GLOBAL ID：201902210259277403   整理番号：19A0658632

光電気化学的水分解デバイスのための有効な触媒としての酸化コバルトの低温原子層堆積【JST・京大機械翻訳】

Low-Temperature Atomic Layer Deposition of Cobalt Oxide as an Effective Catalyst for Photoelectrochemical Water-Splitting Devices

著者 (12件)： Kim Jiyeon (Inorganic Materials Chemistry, Faculty of Chemistry and Biochemistry, Ruhr-University Bochum,, Germany) ,  Iivonen Tomi (Laboratory of Inorganic Chemistry, Department of Chemistry, University of Helsinki, Finland) ,  Haemaelaeinen Jani (Laboratory of Inorganic Chemistry, Department of Chemistry, University of Helsinki, Finland) ,  Kemell Marianna (Laboratory of Inorganic Chemistry, Department of Chemistry, University of Helsinki, Finland) ,  Meinander Kristoffer (Division of Materials Physics, Department of Physics, University of Helsinki, Finland) ,  Mizohata Kenichiro (Division of Materials Physics, Department of Physics, University of Helsinki, Finland) ,  Wang Lidong (Inorganic Materials Chemistry, Faculty of Chemistry and Biochemistry, Ruhr-University Bochum,, Germany) ,  Raeisaenen Jyrki (Division of Materials Physics, Department of Physics, University of Helsinki, Finland) ,  Beranek Radim (Inorganic Materials Chemistry, Faculty of Chemistry and Biochemistry, Ruhr-University Bochum,, Germany) ,  Beranek Radim (Institute of Electrochemistry, Ulm University, Germany) ,  Leskelae Markku (Laboratory of Inorganic Chemistry, Department of Chemistry, University of Helsinki, Finland) ,  Devi Anjana (Inorganic Materials Chemistry, Faculty of Chemistry and Biochemistry, Ruhr-University Bochum,, Germany)
資料名： Chemistry of Materials  (Chemistry of Materials)
巻： 29  号： 14  ページ： 5796-5805  発行年： 2017年 
JST資料番号： T0893A  ISSN： 0897-4756  CODEN： CMATEX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： [Co-(~tBu2DAD)_2]とオゾンを共試薬として用いて,120°Cで結晶相と相の純粋なスピネル酸化コバルト(Co_3O_4)膜を堆積するための低温原子層蒸着(ALD)プロセスを開発した。X線回折,紫外可視分光法,原子間力顕微鏡,電界放出走査電子顕微鏡,X線光電子分光法,および飛行時間弾性反跳検出分析を行い,膜の構造と特性を特性化した。堆積温度が低いにもかかわらず,堆積したままのCo_3O_4膜は少量の不純物(<2%Cと<5%H)を含む結晶である。水酸化のための薄いTiO_2光アノード(100nm)上へのCo_3O_4の堆積は,純粋なTiO_2膜と比較して30%の光電流の改善をもたらし(約35nm厚膜),光電流応答に有害な影響を示さず,光電気化学水分解デバイスにおける有効な触媒粒子と層の堆積のための開発ALDプロセスの適用性を示した。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 光電流 ,  *低温 ,  不純物 ,  *酸化コバルト ,  *触媒 ,  厚膜 ,  X線回折 ,  *光電気化学 ,  スピネル ,  オゾン ,  原子間力顕微鏡 ,  キャラクタリゼーション
準シソーラス用語： 光アノード ,  電界放出型走査電子顕微鏡 ,  *水分解 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 電気化学反応  (CB07050F) ,  塩基,金属酸化物  (CD01030Z)

タイトルに関連する用語 (6件)： 光電気化学 ,  水分解 ,  触媒 ,  酸化コバルト ,  低温 ,  原子層堆積