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J-GLOBAL ID:201902210894508710   整理番号:19A0026896

エアロゾル支援CVD法による非晶質炭素薄膜の堆積【JST・京大機械翻訳】

Deposition of amorphous carbon thin films by aerosol-assisted CVD method
著者 (3件):
資料名:
巻: 1963  号:ページ: 020042-020042-6  発行年: 2018年 
JST資料番号: D0071C  ISSN: 0094-243X  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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本論文では,前駆体材料としてカンファー油の天然源を用いたエアロゾル支援化学蒸着(AACVD)による非晶質炭素(a-C)の堆積について報告した。4つの試料を,15sccmから20sccmまでの4つの異なる堆積流速で,各試料に対して5sccm間隔で堆積した。解析はデータの電気的,光学的および構造的解析を含む。合成パラメータの操作に由来するa-C構造を,太陽シミュレータシステム,UV-VIS-NIR,Raman分光器およびAFMによって特性化した。a-Cの特性は堆積技術と堆積パラメータに大きく依存した。したがって,ガス流量の影響を研究した。Copyright 2019 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (2件):
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半導体薄膜  ,  その他の無機化合物の薄膜 

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