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J-GLOBAL ID:201902211626144109   整理番号:19A0660526

高配向単分子層MOS_2連続膜のウエハスケール成長と移動【JST・京大機械翻訳】

Wafer-Scale Growth and Transfer of Highly-Oriented Monolayer MoS2 Continuous Films
著者 (29件):
資料名:
巻: 11  号: 12  ページ: 12001-12007  発行年: 2017年 
JST資料番号: W2326A  ISSN: 1936-0851  CODEN: ANCAC3  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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単層MoS_2の大規模エピタキシャル成長と移動は,近年大きな注目を集めている。ここでは,化学蒸着(CVD)法による単結晶サファイアウエハ上の高度に配向した連続で均一な単分子層MoS_2膜のウエハスケールのエピタキシャル成長について報告する。エピタキシャル膜は高品質で,多くの0°,60°ドメインおよび60°ドメイン境界によりステッチされた。さらに,このようなウエハスケール単分子層MoS_2膜は,簡単なスタンプ移動プロセスにより転写され,積層され,基板はその後の成長のために再利用可能である。著者らの進歩は,実用化のための様々な電子,原子価電子,およびオプトエレクトロニクスデバイスのスケーラブルな作製を容易にするであろう。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (2件):
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半導体薄膜  ,  その他の無機化合物の薄膜 
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