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J-GLOBAL ID：201902212041428712   整理番号：19A1483166

キラルシリカ結合アミン残基上に成長させたchiropticalカルフェノール樹脂【JST・京大機械翻訳】

Chiroptical phenolic resins grown on chiral silica-bonded amine residues

著者 (3件)： Tsunega Seiji (Department of Material and Life Chemistry, Kanagawa University, 3-2-7 Rokkakubashi, Yokohama 221-8686, Japan. [e-mail]) ,  Kongpitak Patcharapon ,  Jin Ren-Hua
資料名： Polymer Chemistry  (Polymer Chemistry)
巻： 10  号： 25  ページ： 3535-3546  発行年： 2019年 
JST資料番号： W2349A  ISSN： 1759-9954  CODEN： PCOHC2  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： キラル無機材料は,分子または凝集体のキラル有機成分の存在下で,テンプレート合成経路により効率的に製造できることが一般的に認識されている。しかし,逆プロセス,すなわちキラル無機物から他の有機物へのキラリティー移動に関する例はほとんどない。ここでは,不斉媒体としてアミン残基と共有結合した合成キラルシリカを用いて,キラルフェノール樹脂(RF)の不斉合成を開発し,ホルムアルデヒド(F)によるレゾルシノール(R)の重合を非対称的に媒介した。RF樹脂とSiO_2から成る複合材料は,RF樹脂の吸着バンドの周りの円偏光二色性(CD)スペクトルに顕著に現れるミラー関係を有するキロプチカル信号を示した。興味深いことに,RF樹脂はHF(aq)を用いたキラルシリカの除去後でもCD活性を保持し,キラルシリカからフェノール樹脂への効率的なキラリティ移動を示唆した。RF樹脂におけるキラリティの起源は,キラルなシリカ結合アミン残基により触媒されたC-テトラメチルカリックス[4]resorcinシナレンとホルムアルデヒドの反応からのキラリティーの出現により支持される,歪んだカリキサレン様環状構造の形成による軸対称性の出現であることを提案した。Copyright 2019 Royal Society of Chemistry All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 媒質 ,  不斉合成 ,  有機物 ,  *フェノール樹脂 ,  吸着 ,  無機質 ,  非対称性 ,  スペクトル ,  触媒 ,  *アミン ,  複合材料 ,  *二酸化ケイ素 ,  脂肪族アルデヒド
準シソーラス用語： *キラリティ ,  *残基 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (3件)： 高分子と低分子との反応  (CG03020L) ,  単独重合  (CG04020S) ,  高分子固体の物理的性質  (CG02024U)

物質索引 (1件)： ホルムアルデヒド

タイトルに関連する用語 (4件)： アミン ,  残基 ,  成長 ,  フェノール樹脂