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J-GLOBAL ID:201902212062152337   整理番号:19A0656693

溶媒アニールしたPS-b-PMMA膜におけるジャイロイド構造 基板相互作用による制御された配向【JST・京大機械翻訳】

Gyroid Structures in Solvent Annealed PS-b-PMMA Films: Controlled Orientation by Substrate Interactions
著者 (5件):
資料名:
巻: 50  号: 13  ページ: 5033-5041  発行年: 2017年 
JST資料番号: B0952A  ISSN: 0024-9297  CODEN: MAMOBX  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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高分子量(HMW)ポリスチレン-b-ポリ-(メチルメタクリレート(PS-b-PMMA)の薄膜において,PS及びPMMAブロックに非選択的にテトラヒドロフランを用いた溶媒蒸気アニーリング(SVA)プロセスによるジャイロイド構造の配向を調べた。SVAプロセスの間,膨潤したPS-b-PMMA膜は,不十分に秩序化した構造から円筒状の形態を通して発達したジャイロイド構造を生成した。基板によって発揮された界面相互作用は,それぞれ選択的および中性基板上の平行および垂直配向のような円筒の配向に著しく影響し,一方,溶媒蒸気は表面で垂直円筒を生成した。ジャイロイド構造の最終形成において,膜の内部全体を通して表面上に2つの異なる[211]と[111]面を同定した。これらはそれぞれ選択的および中性基板上の円筒に由来した。秩序-秩序転移の間に起こる分子機構の洞察を提供するために,著者らはさらにブロック共重合体モデルの粗粒シミュレーションを実行した。実験とシミュレーションに基づく著者らの結果は,明確に定義されたジャイロイド構造の指向配向のための簡単なルートを示唆する。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (1件):
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高分子固体の構造と形態学 
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