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J-GLOBAL ID：201902212167519734   整理番号：19A1559309

フォトニックデバイスのためのフェムト秒レーザ描画可能ホウ酸塩系ガラスの設計と製造【JST・京大機械翻訳】

Design and Production of Femtosecond Laser Writable Borate-based Glasses for Photonic Devices

著者 (10件)： Dias A. (Consejo Superior de Investigaciones Cienti ́ficas, Laser Processing Group Instituto de Optica (IO-CSIC), Serrano 121 Madrid, 28006, Spain) ,  Munez F. (Ceramics and Glass Institute (ICV, CSIC), Kelsen 5 Madrid, 28049, Spain) ,  Alvarez A. (Consejo Superior de Investigaciones Cienti ́ficas, Laser Processing Group Instituto de Optica (IO-CSIC), Serrano 121 Madrid, 28006, Spain) ,  Moreno P. (Tepexi Higher Technological Institute, Engineering School, Av. Tecnolo ́gico S/N Tepexi de Rodriguez, 74690, Mexico) ,  Atienzar J. (Consejo Superior de Investigaciones Cienti ́ficas, Laser Processing Group Instituto de Optica (IO-CSIC), Serrano 121 Madrid, 28006, Spain) ,  Urbieta A. (Department of Materials Physics Faculty of Physics, University Complutense of Madrid, Madrid, 28040, Spain) ,  Fernandez P. (Department of Materials Physics Faculty of Physics, University Complutense of Madrid, Madrid, 28040, Spain) ,  Garcia M. (Consejo Superior de Investigaciones Cienti ́ficas, Laser Processing Group Instituto de Optica (IO-CSIC), Serrano 121 Madrid, 28006, Spain) ,  Serna R. (Consejo Superior de Investigaciones Cienti ́ficas, Laser Processing Group Instituto de Optica (IO-CSIC), Serrano 121 Madrid, 28006, Spain) ,  Solis J. (Consejo Superior de Investigaciones Cienti ́ficas, Laser Processing Group Instituto de Optica (IO-CSIC), Serrano 121 Madrid, 28006, Spain)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2019  号： CLEO  ページ： 1-2  発行年： 2019年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,レーザ誘起イオンマイグレーションを用いて,フェムト秒レーザ書込み可能なホウ酸塩ガラスの設計,合成,レーザ加工および性能を報告し,製造効率の良い光導波路を導いた。Copyright 2019 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： ホウ酸塩ガラス ,  レーザ加工 ,  *フェムト秒レーザ ,  *ガラス ,  光導波路 ,  *ホウ酸塩
準シソーラス用語： 生産効率 ,  イオンマイグレーション ,  レーザ誘起 ,  *描画 ,  *フォトニックデバイス , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (3件)： レーザ照射・損傷  (BK16040S) ,  図形・画像処理一般  (JE04010I) ,  レーダ  (ND13010H)

タイトルに関連する用語 (6件)： フォトニックデバイス ,  フェムト秒レーザ ,  描画 ,  ホウ酸塩 ,  ガラス ,  設計