Tanamoto T. について
Corporate R&D Center, Toshiba Corporation, Saiwai-ku, Kawasaki 212-8582, Japan について
Nishi Y. について
Corporate R&D Center, Toshiba Corporation, Saiwai-ku, Kawasaki 212-8582, Japan について
Advanced Device Laboratory, RIKEN, Wako-shi, Saitama 351-0198, Japan について
Applied Physics Letters について
キャラクタリゼーション について
共鳴トンネル効果 について
低温 について
ケイ素 について
不連続性 について
画像 について
トランジスタ について
指紋 について
電流電圧特性 について
ゲート長 について
ナノエレクトロニクス について
単一電子 について
認識アルゴリズム について
トランジスタ について
画像認識 について
アルゴリズム について
指紋 について
電子効果 について
応用 について