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J-GLOBAL ID：201902213370367325   整理番号：19A2094312

ミリメートル高アスペクト比3D構造のためのUV-LEDリソグラフィー【JST・京大機械翻訳】

UV-LED Lithography for Millimeter-Tall High-Aspect Ratio 3d Structures

著者 (1件)： Kim Jungkwun lJK’ (Department of Electrical and Computer Engineering, Kansas State University, Manhattan, KS, 66503, USA)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2019  号： TRANSDUCERS & EUROSENSORS XXXIII  ページ： 100-103  発行年： 2019年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本論文では,ミリメータ高三次元高アスペクト比構造の作製のためのUV-LEDリソグラフィーシステムを紹介した。提案したシステムは,光源からの高強度コリメート光と試料ステージにおける傾斜回転光伝搬を有し,フォトレジスト層内部に三次元光パターンを形成する。リソグラフィーシステムは,5°コリメートレンズでキャップされた5~51.5WのLEDアレイ,傾斜と回転可能な4インチ直径のサンプル保持プレート,およびシステムの操作のためのマイクロコントローラから成る。25LEDから露光光を均一に分布させるために,光源を露光過程で回転させた。広く使用されている負のフォトレジスト,SU-8,および液体ポリウレタン,LF55GNを含むミリメーターの高い構造に対して,2つの異なる感光性高分子を試験した。製作されたミリメータ構造は,ピラー,芸術的な花,マイクロニードルアレイ,およびRFアンテナのホーン構造を含んでいる。Copyright 2019 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： フォトレジスト ,  光伝搬 ,  *三次元 ,  ポリウレタン ,  露光 ,  ホーン ,  アンテナ ,  光源 ,  マイクロコントローラ ,  *リソグラフィー
準シソーラス用語： マイクロニードルアレイ ,  LEDアレイ ,  コリメータレンズ ,  *UV-LED ,  *高アスペクト比 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： 高アスペクト比 ,  3D ,  UV-LED ,  リソグラフィー