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J-GLOBAL ID：201902213753763174   整理番号：19S1380195

Influence of 700 °C vacuum annealing on fracture behavior of micro/nanoscale focused ion beam fabricated silicon structures

著者 (5件)： Goshima, Yoshiharu (Department of Mechanical Engineering, University of Hyogo) ,  Goshima, Yoshiharu (Production Technology Department HORIBA Ltd.) ,  Fujii, Tatsuya (Department of Mechanical Engineering, University of Hyogo) ,  Inoue, Shozo (Department of Mechanical Engineering, University of Hyogo) ,  Namazu, Takahiro (Department of Mechanical Engineering, University of Hyogo)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics
巻： 55  号： 6  発行年： 2016年 
JST資料番号： SCOPUS  ISSN： 0021-4922 
発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)