文献
J-GLOBAL ID：201902214448942022   整理番号：19S0402676

Study on the adhesion strength of CVD-Cu films with ALD-Co(W) underlayers made using amidinato precursors

  • 出版者サイト 複写サービスで全文入手
  • 高度な検索・分析はJDreamⅢで
著者 (4件)：
Shima, Kohei

Shima, Kohei について

(Department of Materials Engineering, University of Tokyo)

Department of Materials Engineering, University of Tokyo について

, 
Shimizu, Hideharu

Shimizu, Hideharu について

(Department of Materials Engineering, University of Tokyo)

Department of Materials Engineering, University of Tokyo について

, 
Momose, Takeshi

Momose, Takeshi について

(Department of Materials Engineering, University of Tokyo)

Department of Materials Engineering, University of Tokyo について

, 
Shimogaki, Yukihiro

Shimogaki, Yukihiro について

(Department of Materials Engineering, University of Tokyo)

Department of Materials Engineering, University of Tokyo について


資料名：
ECS Journal of Solid State Science and Technology

ECS Journal of Solid State Science and Technology について


巻： 4  号： 2  ページ： P20-P29  発行年： 2015年 
JST資料番号： SCOPUS  ISSN： 2162-8769 
発行国： アメリカ (USA)  言語： 英語 (EN)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM