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J-GLOBAL ID：201902215627423794   整理番号：19A2222572

原子層Iro_xの酸性水酸化性能を最適化するための歪制御【JST・京大機械翻訳】

Strain Regulation to Optimize the Acidic Water Oxidation Performance of Atomic-Layer IrO_x

著者 (12件)： Meng Ge (State Key Laboratory of Chemical Resource Engineering, Beijing University of Chemical Technology, Beijing, 100029, China) ,  Meng Ge (Department of Chemistry, Tsinghua University, Beijing, 100084, China) ,  Sun Wenming (College of Science, China Agricultural University, Beijing, 100193, China) ,  Mon Aye Aye (State Key Laboratory of Chemical Resource Engineering, Beijing University of Chemical Technology, Beijing, 100029, China) ,  Wu Xuan (Petrochemical Research Institute of PetroChina, Beijing, 100195, China) ,  Xia Longyu (State Key Laboratory of Chemical Resource Engineering, Beijing University of Chemical Technology, Beijing, 100029, China) ,  Han Aijuan (State Key Laboratory of Chemical Resource Engineering, Beijing University of Chemical Technology, Beijing, 100029, China) ,  Wang Yu (Shanghai Synchrotron Radiation Facility, Shanghai Institute of Applied Physics, Chinese Academy of Science, Shanghai, 201800, China) ,  Zhuang Zhongbin (State Key Lab of Organic-Inorganic Composites and Beijing Advanced Innovation Center for Soft Matter Science and Engineering, Beijing University of Chemical Technology, Beijing, 100029, China) ,  Liu Junfeng (State Key Laboratory of Chemical Resource Engineering, Beijing University of Chemical Technology, Beijing, 100029, China) ,  Wang Dingsheng (Department of Chemistry, Tsinghua University, Beijing, 100084, China) ,  Li Yadong (Department of Chemistry, Tsinghua University, Beijing, 100084, China)
資料名： Advanced Materials  (Advanced Materials)
巻： 31  号： 37  ページ： e1903616  発行年： 2019年 
JST資料番号： W0001A  ISSN： 0935-9648  CODEN： ADVMEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 歪制御は,表面化学を調整し,ナノ触媒の触媒性能を最適化するための重要な戦略になった。ここでは,酸性環境における酸素発生反応(OER)のための圧縮歪効果による調整可能なIr-O結合長を有するIrCoナノデンドライト上の原子層IrO_xの構築を実証した。その場拡張X線吸収微細構造から証明され,IrCoナノデンドライト上のIrO_x層の圧縮歪は原子層成長(IrO_xの≒2から≒9原子層)により2.51%から非歪状態へ徐々に減少し,Ir-O結合長の変化は1.94Åから正常1.99Åへと変化した。1.96ÅのIr-O結合長(1.51%歪)をもつIrCoナノデンドライト上の≒3原子層IrO_xは,高歪(2.51%,≒2原子層IrO_x)および非歪(>6原子層IrO_x)対応物と比較して,10mAcm-2の電流密度を達成するために247mVの過電圧を示した。密度汎関数理論計算は,正確に調整された圧縮歪効果が吸着質-基板相互作用をバランスさせ,HOO*を形成する律速段階を容易にすることを明らかにし,OERに対する3原子層IrO_xの最良性能を保証した。Copyright 2019 Wiley Publishing Japan K.K. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *最適化 ,  効果 ,  律速 ,  相互作用 ,  核間距離 ,  電流密度 ,  過電圧 ,  基板 ,  界面化学 ,  *酸性
準シソーラス用語： 圧縮歪 ,  酸素発生反応 ,  ナノ触媒 ,  *歪制御 ,  *原子層 , 【Automatic Indexing@JST】

著者キーワード (4件)： 原子層IrOx ,  Ir-O結合長 ,  酸素発生反応 ,  歪調節

分類 (3件)： 塩基,金属酸化物  (CD01030Z) ,  金属酸化物及び金属カルコゲン化物の結晶構造  (BK07020Y) ,  固相転移  (BL04020G)

タイトルに関連する用語 (5件)： 原子層 ,  酸性水 ,  酸化性能 ,  最適化 ,  歪制御