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J-GLOBAL ID:201902215924788990   整理番号:19A2412927

面積増強基板上のドープ酸化ハフニウム(HfO_2)薄膜における焦電エネルギー変換【JST・京大機械翻訳】

Pyroelectric Energy Conversion in Doped Hafnium Oxide (HfO2) Thin Films on Area-Enhanced Substrates
著者 (6件):
資料名:
巻:号: 10  ページ: e1900515  発行年: 2019年 
JST資料番号: W2559A  ISSN: 2194-4288  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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低品位熱源は,エネルギー収穫のために使用するのにまだ挑戦的である。ここでは,SiドープHfO_2薄膜における焦電効果を用いて,熱-電気エネルギー変換を実証した。20nm薄膜を原子層堆積により面積増強基板上に成長させ,平面材料と比較して19倍の出力を増強した。SiドープHfO_2の強誘電性と焦電特性を調べ,-1442μm~-2K-1の大きな焦電係数を測定した。赤外レーザと焦電SiドープHfO_2受信機を用いた無線電力分布を実証した。ここで,Brayton型熱力学サイクルを用いて,単純な抵抗性収穫と比較して効率を高めた。それにより,5Hzでのエネルギー変換サイクルは0.75μW cm-2の正味電力を生成した。パワービーミング回路の動作条件を最適化し,性能は電極の直列抵抗により最終的に制限されることが分かった。HfO_2に基づく焦電の熱効率を古典的な熱起電力に対して解析し,損失機構を議論した。Copyright 2019 Wiley Publishing Japan K.K. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (2件):
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吸収  ,  環境問題 

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