文献
J-GLOBAL ID:201902216029548166   整理番号:19A1888002

プロピニル終端Si(111)表面の構造と方位異方性の振動和周波数分光研究【JST・京大機械翻訳】

Vibrational Sum-Frequency Spectroscopic Investigation of the Structure and Azimuthal Anisotropy of Propynyl-Terminated Si(111) Surfaces
著者 (5件):
資料名:
巻: 121  号: 31  ページ: 16872-16878  発行年: 2017年 
JST資料番号: W1877A  ISSN: 1932-7447  CODEN: JPCCCK  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
抄録/ポイント:
抄録/ポイント
文献の概要を数百字程度の日本語でまとめたものです。
部分表示の続きは、JDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
振動和周波数発生(VSFG)分光法を用いて,プロピニル終端Si(111)表面,Si-C≡C-CH_3に対するC-H伸縮モードの配向と方位異方性を調べた。VSFGスペクトルは対称C-H伸縮振動と非対称C-H伸縮振動の相互作用から生じるFermi共鳴モードに加えて対称及び非対称C-H伸縮モードを明らかにした。C-H伸縮モードの分極依存性は,Si-C≡C結合がSi(111)表面に垂直であるように配向したプロピニル基と一致した。共鳴C-H伸縮振幅の方位角依存性は対称C-H伸縮モードに対して回転異方性を示さず,3倍対称Si(111)基板によるレジストリにおける非対称C-H伸縮モードに対して3倍回転異方性を示した。結果は,-C≡C-スペーサにより,-CH_3基のC-H伸縮モードがSi基板から分離されるという期待と一致した。対照的に,メチル終端Si(111)表面,Si-CH_3は,バルクSiの電子浴へのメチル伸縮モードの顕著な振電結合を持つことが以前に報告された。プロピニル終端Si(111)の真空アニーリングは対称伸縮に対する3倍の方位異方性の増加をもたらし,アニーリングによる表面からのプロピニル基の除去により,残りのプロピニル基が空の隣接サイトに向かって3つの優先方向の1つに垂直に傾くことを示唆した。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。

準シソーラス用語:
シソーラス用語/準シソーラス用語
文献のテーマを表すキーワードです。
部分表示の続きはJDreamⅢ(有料)でご覧いただけます。
J-GLOBALでは書誌(タイトル、著者名等)登載から半年以上経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
, 【Automatic Indexing@JST】
分類 (5件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
無機化合物の赤外スペクトル及びRaman散乱,Ramanスペクトル  ,  分子の性質一般  ,  半導体の表面構造  ,  固体の表面構造一般  ,  物理的手法を用いた吸着の研究 

前のページに戻る