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J-GLOBAL ID：201902216222290934   整理番号：19A1888056

アルミニウムナノクラスタ上のC-I結合解離過程に及ぼす配位子付着の影響:DFT研究【JST・京大機械翻訳】

Effect of Ligand Attachment on the C-I Bond Dissociation Process on Aluminum Nanoclusters: A DFT Investigation

著者 (3件)： Sengupta Turbasu (Physical Chemistry Division, CSIR National Chemical Laboratory, India) ,  Samanta Bipasa (Department of Chemistry, Indian Institute of Technology Bombay, India) ,  Pal Sourav (Department of Chemistry, Indian Institute of Technology Bombay, India)
資料名： Journal of Physical Chemistry C  (Journal of Physical Chemistry C)
巻： 121  号： 32  ページ： 17354-17364  発行年： 2017年 
JST資料番号： W1877A  ISSN： 1932-7447  CODEN： JPCCCK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 小サイズアルミニウムナノクラスタ上の炭素ハロゲン結合の活性化過程に及ぼす配位子付着の影響を密度汎関数理論を用いて調べた。金属クラスタに適切な配位子を付着させることは,準安定クラスタを安定化するために実験者によってしばしば用いられる広く普及している技術の中にある。深さの理論的研究により,クラスタのゼリー配置に基づいて,電子吸引配位子を付着させることにより,C-I解離に対してより反応性のあるクラスタを作ることができるか,またはクラスタを比較的不活性に変換することができることを示した。配位子付着による活性化障壁と他の関連パラメータの変化を,追加計算と説明に加えて本論文に含めた。本研究は,特定のマジッククラスタの反応パラメータさえ配位子付着により著しく変化できることも示した。金属クラスタ上の小分子の活性化過程は材料科学とクラスタ化学の開発に極めて重要である。したがって,本研究は,連結クラスタの特性のより良い理解と,必要とされる特定のクラスタの反応性の制御に向けた実験者の助けとなる可能性がある。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 炭素 ,  クラスタ化 ,  金属クラスタ ,  材料科学 ,  反応性 ,  *付着 ,  小分子 ,  密度汎関数法 ,  *クラスタ ,  計算 ,  ゼリー
準シソーラス用語： 反応パラメータ ,  活性化障壁 ,  吸引 ,  ハロゲン結合 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 分子化合物  (CE02000C) ,  第11族,第12族元素の錯体  (CE01050Y)

タイトルに関連する用語 (7件)： アルミニウム ,  ナノクラスタ ,  解離 ,  過程 ,  配位子 ,  DFT ,  研究