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J-GLOBAL ID：201902216990005932   整理番号：19A0656913

デュアルトーンフォトレジストとしての直接光パターン形成可能なポリチオフェン【JST・京大機械翻訳】

Directly Photopatternable Polythiophene as Dual-Tone Photoresist

著者 (7件)： Hu Xiaoran (Department of Chemistry, Tufts University, Massachusetts, United States) ,  Lawrence John A. III (Department of Chemistry, Tufts University, Massachusetts, United States) ,  Mullahoo James (Department of Chemistry, Tufts University, Massachusetts, United States) ,  Smith Zachary C. (Department of Chemistry, Tufts University, Massachusetts, United States) ,  Wilson Daniel J. (Department of Chemistry, Tufts University, Massachusetts, United States) ,  Mace Charles R. (Department of Chemistry, Tufts University, Massachusetts, United States) ,  Thomas Samuel W. III (Department of Chemistry, Tufts University, Massachusetts, United States)
資料名： Macromolecules  (Macromolecules)
巻： 50  号： 18  ページ： 7258-7267  発行年： 2017年 
JST資料番号： B0952A  ISSN： 0024-9297  CODEN： MAMOBX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： o-ニトロベンジル(oNB)官能化側鎖を有する直接光パターン形成可能なポリチオフェン誘導体PT_oNBを報告した。Pt_oNBには,3つの段階を通してプログラムされた独特の光調整可能な溶解度がある(i)有機可溶性/水性不溶性,(ii)有機不溶性/水性不溶性,(iii)有機不溶性/水溶性可溶性。3段階を通して空間時間精度と直交現像溶媒による共役高分子溶解度を制御する能力は,この共役高分子の直接パターン形成を可能にし,正と負のトーンフォトリソグラフィーを選択するための柔軟性を提供する。光変調に対するこのアプローチは多層積層共役高分子膜の全溶液処理を可能にする;ここでは,この新規共役高分子フォトレジストによる直接二層光パターン形成を実証した。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 官能化 ,  共役 ,  *ポリチオフェン ,  *パターン形成 ,  柔軟性 ,  水溶性 ,  側鎖 ,  *フォトレジスト ,  不溶性 ,  溶解度 ,  現像 ,  フォトリソグラフィー ,  多層 ,  可溶性
準シソーラス用語： 共役重合体 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (4件)： 高分子固体の物理的性質  (CG02024U) ,  チオフェン  (CF07074D) ,  共重合  (CG04030D) ,  チオフェンの縮合誘導体  (CF07075U)

タイトルに関連する用語 (2件)： パターン形成 ,  ポリチオフェン