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J-GLOBAL ID：201902217282199975   整理番号：19A1810187

歪センサのための干渉ホログラフィーを用いた一軸配向ポリエチレン膜の表面マイクロパターン形成【JST・京大機械翻訳】

Surface Micropatterning of Uniaxially Oriented Polyethylene Films Using Interference Holography for Strain Sensors

著者 (8件)： Shen Lihua (Laboratory of Functional Organic Materials and Devices, Eindhoven University of Technology, The Netherlands) ,  Lafleur Sarah S. D. (Laboratory of Functional Organic Materials and Devices, Eindhoven University of Technology, The Netherlands) ,  Houben Simon J. A. (Laboratory of Functional Organic Materials and Devices, Eindhoven University of Technology, The Netherlands) ,  Murphy Jeffrey N. (Laboratory of Functional Organic Materials and Devices, Eindhoven University of Technology, The Netherlands) ,  Severn John R. (Laboratory of Functional Organic Materials and Devices, Eindhoven University of Technology, The Netherlands) ,  Severn John R. (DSM Materials Science Center, The Netherlands) ,  Bastiaansen Cees W. M. (Laboratory of Functional Organic Materials and Devices, Eindhoven University of Technology, The Netherlands) ,  Bastiaansen Cees W. M. (School of Engineering and Materials Science, Queen Mary University of London, U.K.)
資料名： Langmuir  (Langmuir)
巻： 33  号： 51  ページ： 14592-14598  発行年： 2017年 
JST資料番号： A0231B  ISSN： 0743-7463  CODEN： LANGD5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ナノ秒パルスレーザによる干渉ホログラフィーを用いた一軸配向ポリエチレン(PE)膜上の表面マイクロパターンの直接生成のための新しい方法を示した。紫外線吸収体,2-(2H-ベンゾトリアゾール-2-イル)-4,6-ジ-tert-ペンチルフェノール(BZT)は,レーザの波長で吸収を発生するために,延伸前にPEに組み込まれる。BZTの吸収バンドにおける干渉パターンによる照明は,露出領域における明らかな高さ変化をもたらし,その結果,レリーフ格子を発生させた。露光領域の高さは格子方向と膜配向方向の間の角度に強く依存した。この現象は,融解,エントロピー収縮,再結晶,BZTの熱蒸発,および異方性熱伝導率のようなイベントの組合せに起因する。レリーフ高さはBZT濃度の増加と共に増加し,ある閾値以上のエネルギー線量に対して線形依存性を示すことを示した。さらに,表面マイクロパターンを有する配向PE膜を歪センサについて調べた。結果は,10%以下の小さな歪がマイクロパターン化した配向PE膜の引張変形において正確にモニターされ,これらの膜が歪センサとして潜在的に有用であることを示した。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *ホログラフィー ,  *干渉 ,  再結晶 ,  異方性 ,  蒸発 ,  線形性 ,  エントロピー ,  レーザ ,  パルスレーザ ,  濃度依存性 ,  ナノ秒 ,  延伸 ,  *ポリエチレン
準シソーラス用語： レリーフ ,  *マイクロパターン ,  *歪センサ , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 固-液界面  (CB12050B) ,  高分子固体の構造と形態学  (CG02022M)

タイトルに関連する用語 (6件)： 歪センサ ,  干渉 ,  ホログラフィー ,  一軸配向 ,  ポリエチレン ,  マイクロパターン形成