文献

J-GLOBAL ID：201902217291792824   整理番号：19A1415863

液滴の蒸発に及ぼす磁場の影響【JST・京大機械翻訳】

Influence of magnetic field on evaporation of a ferrofluid droplet

著者 (3件)： Jadav Mudra (Department of Physics, Maharaja Krishnakumarsinhji Bhavnagar University, Bhavnagar 364002, India) ,  Patel R. J. (Department of Physics, Maharaja Krishnakumarsinhji Bhavnagar University, Bhavnagar 364002, India) ,  Mehta R. V. (Department of Physics, Maharaja Krishnakumarsinhji Bhavnagar University, Bhavnagar 364002, India)
資料名： Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)
巻： 122  号： 14  ページ： 145302-145302-8  発行年： 2017年 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本論文では,平面ガラス基板上に置かれた強磁性流体液滴の蒸発に及ぼす静的磁場の影響を報告した。水ベースの強流体液滴は,周囲条件下で乾燥することができる。他の全ての流体のように,この流体はゼロ磁場条件下で良く知られたコーヒー環パターンを示す。このパターンは静的磁場を印加することにより変調されることを示した。基板の平面に垂直な方向に磁場を印加すると,リングの厚さは場の増加とともに減少し,場の臨界値の下では,コーヒーリング効果は抑制される。平行場配置に対して,基板面に平行な線形鎖を観測した。接触角の蒸発速度と時間変化に及ぼす場の影響も調べた。得られた結果を利用可能なモデルに照らして解析した。これらの知見は,インクジェット印刷,リソグラフィー,および強磁性流体を含む塗装およびディスプレイデバイスのような応用において有用である可能性がある。Copyright 2019 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： リソグラフィー ,  モデル ,  インクジェット印刷 ,  コーヒー ,  磁性流体 ,  経時変化 ,  *液滴 ,  *磁場 ,  臨界定数 ,  表示装置 ,  静磁場 ,  蒸発速度 ,  線形性 ,  接触角
準シソーラス用語： ガラス基板 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 磁性流体  (BM06090W)

タイトルに関連する用語 (3件)： 液滴 ,  蒸発 ,  磁場