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J-GLOBAL ID：201902217482604135   整理番号：19S0080209

Amorphous carbon film deposition for hydrogen barrier in FeRAM integration by radio frequency plasma chemical vapor deposition

著者 (7件)： Saito, Takeyasu (Dept. of Chem. Eng., Osaka Prefecture University) ,  Izumi, Kaname (Dept. of Chem. Eng., Osaka Prefecture University) ,  Hirota, Yuichiro (Dept. of Chem. Eng., Osaka Prefecture University) ,  Okamoto, Naoki (Dept. of Chem. Eng., Osaka Prefecture University) ,  Kondo, Kazuo (Dept. of Chem. Eng., Osaka Prefecture University) ,  Yoshimura, Takeshi (Dept. of Phys. Electro., Osaka Prefecture University) ,  Fujimura, Norifumi (Dept. of Phys. Electro., Osaka Prefecture University)
資料名： ECS Transactions
巻： 25  号： 8 PART 2  ページ： 693-698  発行年： 2009年 
JST資料番号： SCOPUS  ISSN： 1938-5862  ISBN： 9781566777452 
発行国： アメリカ (USA)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (1件)： FeRAM