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J-GLOBAL ID：201902217687006095   整理番号：19S0620750

Measurements of SiH4/H2 VHF plasma parameters with heated langmuir probe

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著者 (7件)：
Yamane, T.

Yamane, T. について

(Solar Power Department, Mitsubishi Heavy Industries Ltd.)

Solar Power Department, Mitsubishi Heavy Industries Ltd. について

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Nakao, S.

Nakao, S. について

(Solar Power Department, Mitsubishi Heavy Industries Ltd.)

Solar Power Department, Mitsubishi Heavy Industries Ltd. について

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Takeuchi, Y.

Takeuchi, Y. について

(Solar Power Department, Mitsubishi Heavy Industries Ltd.)

Solar Power Department, Mitsubishi Heavy Industries Ltd. について

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Muta, H.

Muta, H. について

(Interdisciplinary Graduate School of Engineering Sciences, Kyushu University)

Interdisciplinary Graduate School of Engineering Sciences, Kyushu University について

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Uchino, K.

Uchino, K. について

(Interdisciplinary Graduate School of Engineering Sciences, Kyushu University)

Interdisciplinary Graduate School of Engineering Sciences, Kyushu University について

, 
Kawai, Y.

Kawai, Y. について

(Interdisciplinary Graduate School of Engineering Sciences, Kyushu University)

Interdisciplinary Graduate School of Engineering Sciences, Kyushu University について

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Ichiki, R.

Ichiki, R. について

(Department of Electrical and Electronic Engineering, Oita University)

Department of Electrical and Electronic Engineering, Oita University について


資料名：
Contributions to Plasma Physics

Contributions to Plasma Physics について


巻： 53  号： 8  ページ： 588-591  発行年： 2013年 
JST資料番号： SCOPUS  ISSN： 0863-1042 
発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)
タイトルに関連する用語 (3件)：
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SiH4

SiH4 について

, 
H2

H2 について

, 
VHF

VHF について


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