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J-GLOBAL ID：201902217848545692   整理番号：19S1167199

Epitaxial growth of C60 thin films using continuous-wave laser molecular beam epitaxy

著者 (11件)： Yaginuma, Seiichiro (Materials and Structures Laboratory, Tokyo Institute of Technology) ,  Yaginuma, Seiichiro (Graduate School of Frontier Sciences, University of Tokyo) ,  Katayama, Masao (Materials and Structures Laboratory, Tokyo Institute of Technology) ,  Katayama, Masao (CREST, Japan Science and Technology Agency) ,  Matsumoto, Yuji (Materials and Structures Laboratory, Tokyo Institute of Technology) ,  Matsumoto, Yuji (CREST, Japan Science and Technology Agency) ,  Itaka, Kenji (Graduate School of Frontier Sciences, University of Tokyo) ,  Itaka, Kenji (CREST, Japan Science and Technology Agency) ,  Koinuma, Hideomi (Graduate School of Frontier Sciences, University of Tokyo) ,  Koinuma, Hideomi (CREST, Japan Science and Technology Agency) ,  Haemori, Masamitsu (NIMS)
資料名： Materials Research Society Symposium Proceedings
巻： 965  ページ： 223-227  発行年： 2006年 
JST資料番号： SCOPUS  ISSN： 0272-9172  ISBN： 9781604234176  CODEN： MRSPD 
発行国： アメリカ (USA)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (2件)： C60 ,  LASER