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J-GLOBAL ID：201902218663515703   整理番号：19A1749443

ルチルTiO₂上に担持されたNiの還元過程に関するXAFS分析

XAFS Analysis on Reduction Process of Ni Supported on Rutile TiO₂

著者 (5件)： OKAMOTO Shinji (Ritsumeikan Univ., Kusatsu, JPN) ,  YAMAMOTO Yusaku (Ritsumeikan Univ., Kusatsu, JPN) ,  KITAZAWA Hirokazu (Ritsumeikan Univ., Kusatsu, JPN) ,  KATAYAMA Misaki (Ritsumeikan Univ., Kusatsu, JPN) ,  INADA Yasuhiro (Ritsumeikan Univ., Kusatsu, JPN)
資料名： Memoirs of the SR Center, Ritsumeikan University  (Memoirs of the SR Center, Ritsumeikan University)
号： 21  ページ： 15-18  発行年： 2019年05月 
JST資料番号： L4610A  ISSN： 1345-1650  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ・TiO₂上に担持されたNi種の化学状態に及ぼす焼成および還元処理の影響を,XRDおよびXAFS法によって明らかにした。種々の温度で焼成したTiO₂担持Ni触媒をXRD測定により特性化した。焼成温度が600°Cより高いとき,NiO化学種がNiO₃の種としてTiO₂担体に組み込まれることを明らかにした。温度プログラム還元過程におけるNi種の化学状態変換をその場XAFS測定によって調べた。NiTiO₃の還元は700°C以下で進行し,金属Ni(0)種はTiO₂上に生成した。還元温度は,TiO₂上のNiOのものより高かった。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： ルチル ,  *担持触媒 ,  酸化チタン ,  ニッケル ,  *還元 ,  *XAFS ,  状態 ,  焼成 ,  X線回折 ,  *ニッケル触媒 ,  温度 ,  酸化ニッケル ,  TPR【触媒】 ,  XANES ,  変化
準シソーラス用語： 温度プログラム還元 ,  化学状態 ,  焼成温度 ,  組成変化

分類 (1件)： その他の触媒  (CB06123Z)

タイトルに関連する用語 (8件)： ルチル ,  TiO2 ,  担持 ,  Ni ,  還元 ,  過程 ,  XAFS ,  分析