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J-GLOBAL ID：201902219581033192   整理番号：19A2319192

フェニルシリコーンゴムのフェニル基とビニル基をNMR法で測定した。【JST・京大機械翻訳】

Determination of phenyl and vinyl content in phenyl silicone rubber by nuclear magnetic resonance spectroscopy

著者 (8件)： Li Hui (中国兵器工業集団第五三研究所,済南,250031) ,  Sun Zhiyong (中国兵器工業集団第五三研究所,済南,250031) ,  Li Bin (中国兵器工業集団第五三研究所,済南,250031) ,  Ai Hui (北京理工大学分析測試中心,北京,102400) ,  Deng Weihua (中国兵器工業集団第五三研究所,済南,250031) ,  Du Huatai (中国兵器工業集団第五三研究所,済南,250031) ,  Sun Guohua (中国兵器工業集団第五三研究所,済南,250031) ,  Ma Weidong (中国兵器工業集団第五三研究所,済南,250031)
資料名： Huaxue Fenxi Jiliang  (Huaxue Fenxi Jiliang)
巻： 28  号： 4  ページ： 48-52  発行年： 2019年 
JST資料番号： C3270A  ISSN： 1008-6145  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： フェニルシリコーンゴムのフェニル基とビニル基の含有量を核磁気定量技術で測定し,重水素化溶媒の種類,パルス角度,緩和遅延時間などのパラメータが測定結果に与える影響を研究した。その結果,重水素化クロロホルムの溶媒ピークはフェニル共鳴ピークと重なり,フェニル基含量の測定結果が高いことが分かった。手動補正スペクトル図の位相、ベースラインで得られた測定結果の変動は小さかった。324sの範囲において,SNRは緩和遅延時間の増加とともに減少した。SNRは,サンプリング時間および走査回数の増加とともに増加した。決定した実験条件:溶媒は重水素化テトラヒドロフラン、パルス偏向角は30°、サンプリング回数は128、サンプリング時間は3s、緩和時間は3s、手動校正スペクトル線である。安定性試験結果の離散係数は0.71%1.9%(n=5)であった。高純度メチルフェニルシクロシロキサンのフェニル基とメチルビニルシクロシロキサン中のビニル基の含有量をこの方法でテストし,測定結果は100.074%,98.538%で,理論値(100%)に近く,測定結果の相対標準偏差(RSD)は0.06%,0であった。08%(n=5)。この方法の安定性は良好で、精度が良好で、フェニルシリコーンゴムのフェニル基、ビニル含有量の測定に用いることができる。Data from Wanfang. Translated by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 緩和現象 ,  重水素化 ,  スペクトル ,  走査 ,  パルス ,  *フェニル基 ,  パラメータ ,  偏向 ,  *NMR【磁気共鳴】 ,  緩和時間 ,  *ビニル基 ,  *シリコーンゴム ,  位相 ,  環状エーテル ,  脂肪族塩素化合物 ,  トリハロメタン

分類 (2件)： 酸化,還元  (CF02060T) ,  高分子化学一般  (CG01000B)

物質索引 (2件)： テトラヒドロフラン ,  クロロホルム

タイトルに関連する用語 (3件)： フェニル基 ,  ビニル基 ,  NMR