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J-GLOBAL ID：201902219587385051   整理番号：19A2366861

Janus MOSSE-グラフェンに基づくvan der Waalsヘテロ構造におけるプラズモンの増強と制御【JST・京大機械翻訳】

Enhancing and Controlling Plasmons in Janus MoSSe-Graphene Based van der Waals Heterostructures

著者 (6件)： Cavalcante L. S. R. (Departamento de Fisica, Universidade Federal do Ceara, Ceara, Brazil) ,  Gjerding M. N. (CAMD, Department of Physics, Technical University of Denmark, Denmark) ,  Gjerding M. N. (Center for Nanostructured Graphene (CNG), Technical University of Denmark, Denmark) ,  Chaves Andrey (Departamento de Fisica, Universidade Federal do Ceara, Ceara, Brazil) ,  Thygesen K. S. (CAMD, Department of Physics, Technical University of Denmark, Denmark) ,  Thygesen K. S. (Center for Nanostructured Graphene (CNG), Technical University of Denmark, Denmark)
資料名： Journal of Physical Chemistry C  (Journal of Physical Chemistry C)
巻： 123  号： 26  ページ： 16373-16379  発行年： 2019年 
JST資料番号： W1877A  ISSN： 1932-7447  CODEN： JPCCCK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： グラフェンプラズモンを設計するために,外部源(静電ゲートまたは化学的機能化のような)を必要とせずにヘテロ構造内部に埋め込まれたグラフェンを選択的にドープするために,それらの面外構造非対称性に起因する固有電気双極子を有するMoSSe Janus層の使用を調べた。量子静電ヘテロ構造法を用いて,ドーピングレベルによるプラズモンエネルギーの制御と異なる層におけるプラズモンの混成により,0.5eVまでのグラフェンプラズモンエネルギーに達することができ,Landau減衰により特定の(対称)モードを選択的にクエンチできることを実証した。この効果を改善できる他のJanus遷移金属ジカルコゲニドを用いる可能性も調べた。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *グラフェン ,  *プラズモン ,  クエンチ ,  Landau減衰 ,  ドーピング ,  対称性 ,  非対称性 ,  電気双極子
準シソーラス用語： *ヘテロ構造 ,  van der Waalsヘテロ構造 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (2件)： 固体プラズマ  (BM02160W) ,  炭素とその化合物  (YB02060D)

タイトルに関連する用語 (5件)： グラフェン ,  VAN ,  ヘテロ構造 ,  プラズモン ,  増強