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J-GLOBAL ID:201902219806790876   整理番号:19A2104333

マイクロエレクトロニクス産業からのTMAH溶液の処理:複合プロセス方式【JST・京大機械翻訳】

Treatment of TMAH solutions from the microelectronics industry: A combined process scheme
著者 (7件):
資料名:
巻: 31  ページ: Null  発行年: 2019年 
JST資料番号: W3005A  ISSN: 2214-7144  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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マイクロエレクトロニクス産業は,フッ化物,リン酸塩,および酢酸(CH_3COOH)などの有機汚染物質,および水酸化テトラメチルアンモニウム(C_4H_13NO,TMAH)などの無機物質を含む大量の廃水を生産する。本論文の目的は,半導体生産の多国籍企業に由来する実際の液体廃棄物を代表する3種類の廃水の浄化プロセスの記述である。第1の残留液体流(WW1)はTMAHを含み,第2のもの(WW2)はフッ化物とリン酸塩を含み,一方,最後の(WW3)は硝酸塩,フッ化物と酢酸に富んでいた。WWTP1の好気性処理を,同社の都市下水処理施設からの活性汚泥を接種した実験室規模の反応器を用いて研究した。他の残留工業排水(フォトレジスト)をいくつかの微量栄養素と共に添加し,良好な炭素/窒素比と細菌増殖のための栄養素供給を保証した。結果は,順化の1日後に,微生物がTMAHを除去し始め,99%の分解が7日で達成されたことを示した。WW2とWW3について,99%の汚染物質除去が石灰による化学沈殿によって得られた。パイロットと工業規模での実験室開発プロセスに関する研究進展を実施する試みを行った。この目的のために,組合せプロセスのシミュレーションを,特定のソフトウェア,SuperPro Designerを用いて実行した。プロセス分析により,処理した液体,TMAHを含む処理液体は,微量レベルに分解せず,他の残留物質は,更なる処理のために,会社の生物学的WWTPに送ることができることを示した。その後,処理水は再利用でき,表面水に放出される。Copyright 2019 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】
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分類 (1件):
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下水,廃水の化学的処理 
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