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J-GLOBAL ID：201902220044997290   整理番号：19A0014556

WO_3ナノ構造薄膜の成長に及ぼす基板の影響【JST・京大機械翻訳】

Influence of substrate on growth of WO₃ nanostructured thin films

著者 (5件)： Kumar Prabhat (Thin Film Laboratory, Physics Department, Indian Institute of Technology Delhi, New Delhi-110016, India) ,  Singh Megha (Thin Film Laboratory, Physics Department, Indian Institute of Technology Delhi, New Delhi-110016, India) ,  Gopal Pawar (Thin Film Laboratory, Physics Department, Indian Institute of Technology Delhi, New Delhi-110016, India) ,  Sharma Rabindar Kumar (Thin Film Laboratory, Physics Department, Indian Institute of Technology Delhi, New Delhi-110016, India) ,  Reddy G. B. (Thin Film Laboratory, Physics Department, Indian Institute of Technology Delhi, New Delhi-110016, India)
資料名： AIP Conference Proceedings  (AIP Conference Proceedings)
巻： 1953  号： 1  ページ： 100022-100022-4  発行年： 2018年 
JST資料番号： D0071C  ISSN： 0094-243X  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： WO_3のナノ構造薄膜を,容易なプラズマ支援昇華プロセスを用いて,種々の基板(ガラス,石英,Mo箔,W箔)上に蒸着し,WO_3の構造的および形態的特性に及ぼす基板の影響を,X線回折(XRD),Raman分光,走査電子顕微鏡(SEM),および高分解能透過型電子顕微鏡(HR-TEM)を用いて系統的に研究した。XRDとRaman分光法を用いた構造解析は,WO_3が高結晶度の単斜晶相で形成されることを示した。HR-TEMの結果は,膜成長が主に(002)結晶面で起こり,XRDによっても確認されたことを示している。SEM研究はWO_3ナノ構造薄膜の形態の変化を示した。また,形態学的研究は,大面積スケールでのWO_3ナノ構造の均一成長を支持した。Copyright 2019 AIP Publishing LLC All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： X線回折分析 ,  単斜晶系 ,  *ナノ構造 ,  形態 ,  走査電子顕微鏡 ,  *基板 ,  電子顕微鏡観察 ,  プラズマ ,  昇華 ,  X線回折 ,  石英 ,  Raman分光法 ,  薄膜成長 ,  モリブデン ,  ガラス ,  *薄膜
準シソーラス用語： 大面積 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (3件)： ナノ構造 ,  薄膜 ,  成長