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J-GLOBAL ID：201902220163302984   整理番号：19A0329555

高出力インパルスマグネトロンスパッタリングを用いたダイヤモンド状炭素膜の形成【JST・京大機械翻訳】

Formation of diamond-like carbon film using high-power impulse magnetron sputtering

著者 (4件)： Iga Kazunori (Department of Electrical and Electronic Engineering, Meijo University, 1-501, Shiogamaguchi, Tempaku-ku, Nagoya 468-8502, Japan) ,  Oda Akinori (Department of Electrical and Electronic Engineering, Chiba Institute of Technology, 2-17-1 Tsudanuma, Narashino 275-0016, Japan) ,  Kousaka Hiroyuki (Department of Mechanical Engineering, Gifu University, 1-1 Yanagido, Gifu 501-1193, Japan) ,  Ohta Takayuki (Department of Electrical and Electronic Engineering, Meijo University, 1-501, Shiogamaguchi, Tempaku-ku, Nagoya 468-8502, Japan)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 672  ページ： 104-108  発行年： 2019年 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,ダイヤモンド状炭素(DLC)膜を高出力インパルスマグネトロンスパッタリング(HiPIMS)を用いて形成し,その後,アルゴンイオン(Ar+)と炭素イオン(C+)のイオンエネルギー分布関数(IEDF)をエネルギー分解質量分析を用いて測定し,膜品質と得られたトライボロジー性能に及ぼすHiPIMS操作パラメータとガス種の役割を明らかにした。Ar+に対するIEDFは低エネルギーと高エネルギー成分の両方を含むが,C+に対するIEDFは主に高エネルギー成分を含むことを見出した。同じ気相分析条件下で基板バイアス電圧ゼロで形成したDLC膜に対して,蒸着速度は印加電圧の増加と共に直線的に増加し,炭素構造はRaman分光法により分析したときほとんど変化しないことを見出した。さらに,摩擦係数と耐摩耗性の両方が改善された。これらの結果は,Ar+とC+の両方がDLC膜の堆積機構と品質の決定において重要な役割を果たす可能性を有することを示している。Copyright 2019 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 質量分析 ,  *炭素 ,  *マグネトロンスパッタリング ,  分布関数 ,  品質 ,  DLC膜 ,  トライボロジー ,  摩擦係数 ,  電圧 ,  耐摩耗性 ,  *ダイヤモンド状炭素 ,  印加電圧 ,  蒸着速度 ,  イオンエネルギー ,  *高出力 ,  機械的性質 ,  耐性

著者キーワード (4件)： ダイヤモンド状炭素膜 ,  高出力インパルスマグネトロンスパッタリング ,  エネルギー分解質量分析 ,  トライボロジー

分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (4件)： 高出力 ,  インパルス ,  マグネトロンスパッタリング ,  ダイヤモンド状炭素