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J-GLOBAL ID：201902220496959333   整理番号：19A1959749

フォトレジスト除去中のNO_x放出を低減する新しい酸素ベースのドライストリッププロセス【JST・京大機械翻訳】

Novel Oxygen-based Dry Strip Process Reducing NO_x Emissions During Photoresist Removal

著者 (5件)： Kim Ji Seung (R&D Center, PSK Inc., Hwaseong-si, Gyeonggi-do, Republic of Korea) ,  Hyeok Ryu Je (R&D Center, PSK Inc., Hwaseong-si, Gyeonggi-do, Republic of Korea) ,  Lee Chiyoung (R&D Center, PSK Inc., Hwaseong-si, Gyeonggi-do, Republic of Korea) ,  Lee Yun Young (R&D Center, PSK Inc., Hwaseong-si, Gyeonggi-do, Republic of Korea) ,  Hoon Kim Byoung (R&D Center, PSK Inc., Hwaseong-si, Gyeonggi-do, Republic of Korea)
資料名： IEEE Conference Proceedings  (IEEE Conference Proceedings)
巻： 2019  号： ASMC  ページ： 1-5  発行年： 2019年 
JST資料番号： W2441A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： O2/N2下流プラズマを用いた乾式ストリッププロセスからのNOx排出における工業的関心は著しく増加している。本論文では,異なる総ガス流量と窒素比を有するレシピに対するストリップ性能とNOx排出を比較した。全ガス流量と窒素比が低下すると,NOx排出量は減少し,ストリップ速度,ウエハ内均一性,ウエハからウエハへの均一性などのストリップ性能が達成された。定性的および定量的分析の両方について,チャンバー上の発光分光器および乾燥ポンプ上の携帯型ガス分析器をそれぞれ用いた。両分析の結果は,種々の処方からのNOx排出を実証するために良く一致した。結論として,>12.3μ/分のストリップ速度,<5.1%のウエハ内均一性,1.4%のウエハからウエハへの均一性,および3414のNOx排出が新しく提案された処方から達成できる。Copyright 2019 The Institute of Electrical and Electronics Engineers, Inc. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： *酸素 ,  プラズマ ,  ガス分析計 ,  *フォトレジスト ,  発光分光法 ,  携帯型 ,  定量的分析 ,  窒素 ,  *帯板
準シソーラス用語： チャンバ ,  酸化窒素排出量 ,  ガス流量 ,  NOx排出 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： アンテナ  (ND06000M)

タイトルに関連する用語 (3件)： フォトレジスト ,  放出 ,  酸素