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J-GLOBAL ID：201902220627956533   整理番号：19A1889168

ヒドロキシル基およびエポキシ基と同時に被覆されたグラフェンの化学的に調整可能な性質【JST・京大機械翻訳】

Chemically Tunable Properties of Graphene Covered Simultaneously with Hydroxyl and Epoxy Groups

著者 (6件)： Guilhon I. (Grupo de Materiais Semicondutores e Nanotecnologia, Instituto Tecnologico de Aeronautica, Brazil) ,  Guilhon I. (Institut fuer Festkoerpertheorie und -optik, Friedrich-Schiller-Universitaet and ETSF, Germany) ,  Bechstedt F. (Institut fuer Festkoerpertheorie und -optik, Friedrich-Schiller-Universitaet and ETSF, Germany) ,  Botti Silvana (Institut fuer Festkoerpertheorie und -optik, Friedrich-Schiller-Universitaet and ETSF, Germany) ,  Marques M. (Grupo de Materiais Semicondutores e Nanotecnologia, Instituto Tecnologico de Aeronautica, Brazil) ,  Teles L. K. (Grupo de Materiais Semicondutores e Nanotecnologia, Instituto Tecnologico de Aeronautica, Brazil)
資料名： Journal of Physical Chemistry C  (Journal of Physical Chemistry C)
巻： 121  号： 49  ページ： 27603-27611  発行年： 2017年 
JST資料番号： W1877A  ISSN： 1932-7447  CODEN： JPCCCK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 成長温度およびグラフェン上に吸着したヒドロキシルおよびエポキシ基の量の関数として,化学量論的酸化グラフェンの化学的に調整可能な特性を調べた。構造不規則性をクラスタ展開に基づく統計的アプローチ内でモデル化した。密度汎関数理論に基づくab initio計算により,308クラスタ対称クラスのセットを調べた。エネルギーと相安定性の完全なシナリオを開発し,グラフェン酸化物の構造と電子的性質への洞察を得た。著者らの結果は,酸素含有基の凝集傾向がそれらの相対的割合に依存せず,両基を有する独特の酸素リッチ相の好ましい形成を示すことを示した。化学組成の全範囲で構造と電子特性を予測した。酸素リッチ相の光学的性質も異なる成長条件で詳細に議論した。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

シソーラス用語： 計算 ,  化学量論 ,  密度汎関数法 ,  凝集 ,  酸素 ,  クラスタ展開 ,  対称性 ,  *ヒドロキシ基 ,  相安定性 ,  クラスタ ,  モデリング ,  化学組成 ,  *グラフェン
準シソーラス用語： 第一原理計算 ,  酸化グラフェン ,  *エポキシ基 , 【Automatic Indexing@JST】

分類 (1件)： 炭素とその化合物  (YB02060D)

タイトルに関連する用語 (5件)： ヒドロキシル基 ,  エポキシ基 ,  グラフェン ,  化学 ,  性質