本文一部表示:
本文一部表示
文献の本文または文献内に掲載されている抄録の冒頭(最大100文字程度)を表示しています。
非表示の場合はJDreamⅢ(有料)でご覧頂けます。J-GLOBALでは書誌登載から半年~1年程度経過後に表示されますが、医療系文献の場合はMyJ-GLOBALでのログインが必要です。
1.緒言 近年、集積回路の高集積化が進んでいる中で、ダマシンプロセスと呼ばれる電気めっき法は銅配線の微細化を支える技術として主に利用されている。その銅めっき浴には、抑制剤、促進剤、レベラーに分類される複数の添加剤を用いることで、トレンチやビ...【本文一部表示】