犠牲スタンピングによるナノ構造サブミクロンブロック共重合体ドット:局所分解センシング,化学,および細胞相互作用のための潜在的予備濃縮プラットフォーム【JST・京大機械翻訳】

Hou Peilong; Han Weijia; Philippi Michael; Schaefer Helmut; Steinhart Martin

文献

J-GLOBAL ID：201902221012616287 整理番号：19A0203762

犠牲スタンピングによるナノ構造サブミクロンブロック共重合体ドット:局所分解センシング,化学,および細胞相互作用のための潜在的予備濃縮プラットフォーム【JST・京大機械翻訳】

Nanostructured Submicron Block Copolymer Dots by Sacrificial Stamping: A Potential Preconcentration Platform for Locally Resolved Sensing, Chemistry, and Cellular Interactions

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資料名：
巻： 1 号： 3 ページ： 1413-1419 発行年： 2018年
JST資料番号： W5033A ISSN： 2574-0970 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

古典的な接触リソグラフィーは,エンボス加工またはインクの移動による表面のパターン形成を含む。対応する表面上への犠牲スタンプの部品の直接リソグラフィー移動を報告した。ブロック共重合体ポリスチレン-block-ポリ-(2-ピリジン(PS-b-P2VP)から成る犠牲スタンプを用いて,シリコンウエハとガラススライド上に約100nmの高さをもつナノ構造サブミクロンPS-b-P2VPドットのアレイを堆積した。犠牲PS-b-P2VPスタンプを,切断ピラミッド接触要素でトポグラフ的にパターン化し,スポンジ連続ナノ細孔システムにより貫通した。犠牲PS-b-P2VPスタンプの海綿状性は,相手表面への接着接触の形成とスタンプ収縮中の接触要素の破壊を支持した。犠牲スタンピングによって発生したサブミクロンPS-b-P2VPドットは,さらに機能化できる。例には,染料によるサブミクロンPS-b-P2VPドットの負荷とそれらの外部表面への金ナノ粒子の付着が含まれる。サブミクロンPS-b-P2VPドットのアレイは,高度な光学顕微鏡,全内部反射蛍光顕微鏡,またはRaman顕微鏡のためにセットアップすることができる。ナノ構造サブミクロンブロック共重合体ドットのアレイは,局所的に分解されたセンシングと細胞相互作用の局所的に分解されたモニタリングのための予備濃縮プラットフォームを表す可能性があり,また,ラボオンチップ配置におけるマイクロリアクタアレイとして使用される可能性がある。Copyright 2019 American Chemical Society All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.【JST・京大機械翻訳】

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固体デバイス製造技術一般

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